第208章 人与人之间的差距咋这么大呢?(2 / 2)

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“真要学,我建议你们学习我的作息。”

“我这个人最爱的就是学习,学习使我快乐,学习使我进步,学习让我人生充满了激情……”

“人生何处不学习,三人行必有我师。我每天几乎都对学习……”

曾宇解释道。

众人感觉自己内心受到了严重的打击。

这话怎么听着好像曾宇瞧不起他们似的。

“行了,现在我们废话少说,进行学术交流吧。”

曾宇说着,坐到了自己的位置上。

这时候。

场面再一次的安静下来。

各国的教授或是沉思,或者是看着自己手中的笔记本。

“曾院士,我们可以提问吗?”

这时候,一个教授开口道。

曾宇看着他,满脸自信的点了点头。

“没问题。”

“只要是关于光刻机和芯片方面的东西,你们随便问,我给你们解答……”

随……随便问?

听见这话。

众人再次惊愕。

太自信了吧。

一个人的脑容量能够有多大。

才19岁,能够学习的知识点,能够有多少。

难不成,这次光刻机和碳基芯片,还真的99%都是曾宇的功劳不成。

“真的吗?”

“您不是在开玩笑吧。”

此人疑惑的问道。

“当然。”

“要是我回答不出来,我当场把这本书给吃掉。”

“生吞表演,如何?”

嘶……

这……

太狠了。

是个狼灭!

“好,我想问一下,3nm的光刻机,和5nm的光刻机最核心的地方是晶体管的技术……”

“据我所知,Fi工艺是最符合摩尔定律的,如果要取得突破话,那么就会违反摩尔定律……”

“这个核心点,你们是如何突破的呢?”

此人提出了一个相当尖锐的问题。

这是为什么到了5nm光刻机后,很难再有存进的缘故。

曾宇笑了笑。

侃侃而谈。

“3nm光刻机和5nm光刻机这个技术点的突破,仅仅是摩尔定律吗?”

“不,是我们人的思维。”

“所有的定律,都是用来打破的,你如果对某个定律坚信不疑,那么你将会失去创造力。”

“我们的光刻机晶体管基于全栅极(GAAFET)技术,GAA拥有高静电掌控能力,可以实现CMOS微缩……”

“在水平配置中,也是目前主流Fi技术的自然延伸,可以通过垂直堆叠多条水平纳米线来最大化每个覆盖区的驱动电流……”

解释完毕之后。

此人脸上早已经没有刚才的质疑神色。

反而是陷入了激动之中。

其余诸人,也都是眉头紧锁,在思考着这个关键点。

啪啪啪……

片刻后。

这个问话之人,心悦诚服的拍了拍。

“曾院士竟然能够有如此奇特的妙想……”

“佩服,佩服……”

“我受教了!”

曾宇笑着摆了摆手。

“说实话,你这个问题太简单了,你还有更难一点的问题吗?”

Emmm……

太简单了?

众人内心不由一窒。

这尼玛叫简单?

能不能别装逼!

这都简单的话,那3nm的光刻机不是早就研发出来了。

不过……

看曾宇的表情,很轻松,很愉悦。

没有一丁点的压力。

而且,解释也非常的合理。

好像对于他而言,就真的很简单啊!

想到这里,众人内心莫名一痛。

人与人之间差距怎么这么大呢!